EUV光刻机仅售5台，Intel悄然转变

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近日，ASML独家披露，该公司向客户仅售出五台高数值孔径（High-NA）EUV光刻机，引发业界对于光刻机在芯片制造中的重要性的重新评估。特别是，Intel这一全球领先的半导体公司，其悄然转变引发了市场的广泛关注。

首先，让我们回顾一下High-NA EUV光刻机的背景。这款光刻机是ASML的最新一代产品，具有更高的数值孔径，能够更精确地将芯片设计图案转移到晶圆表面。它的出现被业界普遍认为是对于先进芯片开发和下代处理器生产的关键推动。

然而，时至今日，各大晶圆代工厂都在减少依赖High-NA EUV，延后导入时间。特别是Intel的这一举动，让市场对High-NA EUV光刻机的前景产生更多疑问。据不愿透露姓名的Intel董事的说法，新型晶体管设计如GAAFET和CFET，正在降低芯片制造对先进光刻设备（尤其是EUV光刻机）的依赖。筛号平台